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真空提純爐

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)，金屬材料的提純結(jié)晶，金屬材料的純度影響半導(dǎo)體芯片等產(chǎn)品的導(dǎo)電性能，故濺射靶材對金屬材料的純度提出了相當(dāng)高的要求。設(shè)備由多級加熱室組成，每級加熱室的溫度不同，通過多溫度段加熱實現(xiàn)不同蒸發(fā)物在不同位置的結(jié)晶收集。
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